本发明涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术：
随着全面屏显示技术的发展，屏下摄像头技术(cameraunderpanel，cup)已经从初步的概念不断迭代，发展成为现在的量产。屏下摄像头技术的关键在于提升摄像头区域显示面板整体对于可见光的透过率，然而，受制于当前的面板设计与膜材结构，摄像头区域显示面板的透光率不高，因此，需要引入新的设计、材料与工艺提高摄像头区域显示面板的透光率，提升屏下摄像头的拍摄效果。
技术实现要素：
本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，可以提高摄像头区域显示面板的透过率，提升屏下摄像头的拍摄效果。
本发明实施例提供一种显示面板，包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，所述显示面板包括发光功能层和彩膜层，所述发光功能层包括多个间隔设置的像素发光单元，
在所述第一显示区内，所述彩膜层包括第一滤光层和第一透明平坦层，所述第一滤光层包括多个第一滤光单元，所述第一滤光单元与所述像素发光单元一一对应，所述第一透明平坦层填充相邻所述第一滤光单元之间的间隙。
可选的，在本发明的一些实施例中，在所述第二显示区内，所述彩膜层包括黑矩阵层、第二滤光层和第二透明平坦层，所述黑矩阵层图案化形成黑矩阵开口，所述第二滤光层包括多个第二滤光单元，所述第二滤光单元设置于所述黑矩阵开口内且与所述像素发光单元一一对应，所述第二透明平坦层覆盖所述第二滤光层和所述黑矩阵层。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述第一滤光单元在所述发光功能层上的正投影覆盖对应的所述像素发光单元，所述第二滤光单元在所述发光功能层上的正投影覆盖对应的所述像素发光单元。
可选的，在本发明的一些实施例中，对于同种颜色的所述像素发光单元，位于所述第一显示区内的所述像素发光单元的尺寸小于位于所述第二显示区内的所述像素发光单元的尺寸，对于同种颜色的所述像素发光单元对应的所述第一滤光单元和所述第二滤光单元，所述第一滤光单元的尺寸小于所述第二滤光单元的尺寸。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述发光功能层包括第一电极层、发光层和第二电极层，所述发光层设置于所述第一电极层和所述第二电极层之间，所述第一电极层包括若干间隔设置且彼此独立的第一电极，所述第一电极对应于所述像素发光单元，
在所述第一显示区内，所述第二电极层在对应于第一滤光单元间隙的位置设置有第二电极开口。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述第二电极开口在所述彩膜层上的投影落入所述第一滤光单元间隙所在的平面范围内。
可选的，在本发明的一些实施例中，在所述第二显示区内，所述第二电极层为整层设置。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述显示面板还包括触控层，所述触控层设置于所述彩膜层和所述发光功能层之间，所述触控层包括触控电极，所述触控电极设置于所述第一显示区以外的区域。
可选的，在本发明的一些实施例中，在所述第二显示区内，所述触控电极设置于所述黑矩阵层对应的位置。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述显示面板还包括盖板，所述盖板设置于所述彩膜层远离所述发光功能层的一侧，在所述第一显示区内，所述盖板包括透明基板和设置于所述透明基板远离所述彩膜层一侧的抗反射增透膜。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述抗反射增透膜为单层结构的透明膜层或多层折射率不同的透明膜层。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述抗反射增透膜包括单层的氟化镁薄膜、双层的氟化镁/氧化锆薄膜或多层的氧化硅/氧化钛/氧化硅/氧化钛薄膜。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述显示面板还包括阵列基板，所述阵列基板包括衬底，在所述第一显示区内，所述衬底为透明衬底。
可选的，在本发明的一些实施例中，所述透明衬底为高透玻璃或透明聚酰亚胺薄膜。
相应的，本发明实施例还提供一种显示装置，包括本发明任意一种实施例提供的显示面板。
本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，所述显示面板包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，所述显示面板包括发光功能层和彩膜层，所述发光功能层包括多个间隔设置的像素发光单元，在所述第一显示区内，所述彩膜层包括第一滤光层和第一透明平坦层，所述第一滤光层包括多个第一滤光单元，所述第一滤光单元与所述像素发光单元一一对应，所述第一透明平坦层填充相邻所述第一滤光单元之间的间隙。本发明通过在显示面板的发光功能层上设置彩膜层取代偏光片，在第一显示区内，彩膜层内的第一滤光单元之间的间隙仅由透明平坦层填充，提高了第一显示区内显示面板的透光率，提升了摄像头的拍像效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的显示面板的一种平面结构示意图；
图2是本发明实施例提供的显示面板的一种剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，以提高摄像头区域显示面板的透光率，提升屏下摄像头的拍摄效果。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
在一种实施例中，请参照图1和图2所示，1示出了本发明实施例提供的显示面板的一种平面结构示意图；图2示出了本发明实施例提供的显示面板的一种剖面结构示意图。如图所示，本发明实施例提供的显示面板10包括第一显示区11和第二显示区12，第一显示区11的透光率大于第二显示区12的透光率，在第一显示区11内，显示面板包括第一像素区aa和位于第一像素区aa之间的透光区ta，在第二显示区12内，显示面板包括第二像素区ba和位于第二像素区ba之间的遮光区na。显示面板包括发光功能层200和彩膜层500。发光功能层200层包括多个间隔设置的像素发光单元，各像素发光单元位于对应的第一像素区aa和第二像素区ba内。彩膜层500设置于发光功能层200的出光侧，包括黑矩阵层510、滤光层520和透明平坦层530。
黑矩阵层510仅设置于第二显示区12内，即第一显示区11内无黑矩阵层设置。在第二显示区12内，黑矩阵层510图案化形成黑矩阵开口，黑矩阵开口与像素发光单元一一对应，黑矩阵开口以外的黑矩阵层510覆盖遮光区na。黑矩阵层510主要用于吸收光线，减少黑矩阵层510下侧的金属对外界光的反射作用，降低显示面板的低蓝光效应。黑矩阵层510的材料包括炭黑、氧化钛、油墨或深色光刻胶中的至少一种。
滤光层520设置于黑矩阵层510上，包括相互间隔设置的滤光单元521、滤光单元522和滤光单元523，滤光单元521、滤光单元522和滤光单元523可分别为红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元。在第二显示区12内，滤光单元521、滤光单元522和滤光单元523分别位于不同的黑矩阵开口内，红色滤光单元与红色像素发光单元一一对应，绿色滤光单元与绿色像素发光单元一一对应，蓝色滤光单元与蓝色像素发光单元一一对应。同样的，在第一显示区11内，滤光单元521、滤光单元522和滤光单元523分别间隔独立设置，红色滤光单元与红色像素发光单元一一对应，绿色滤光单元与绿色像素发光单元一一对应，蓝色滤光单元与蓝色像素发光单元一一对应。在一种实施方案中，对于同种颜色的像素发光单元，位于第一显示区11内的像素发光单元的尺寸小于位于第二显示区12内的像素发光单元的尺寸，对于同种颜色的像素发光单元对应的滤光单元，位于第一显示区11内的滤光单元的尺寸小于位于第二显示区12内的滤光单元的尺寸。滤光单元在发光功能层上的正投影覆盖对应的像素发光单元，滤光单元的尺寸可以与对应的像素发光单元的尺寸相同，也可以比对应的像素发光单元的尺寸大；滤光单元可以仅位于对应的像素区内，可以覆盖且延伸出对应的像素区。滤光层520中的各滤光单元可以包括与其颜色相对应的颜料、光固化树脂、碱性可溶性树脂、光引发剂等材料，以实现滤光功能。
透明平坦层530设置于滤光层520上，在第二显示区12内，透明平坦层530覆盖滤光层520和黑矩阵层510，在第一显示区11内，透明平坦层530覆盖滤光层520且填充滤光单元521、滤光单元522和滤光单元523之间的间隙。透明平坦层530的材料主要包括丙烯酸系列有机材料和硅氧烷系列有机材料，具体包括但不限于亚克力、聚酰亚胺(pi)或苯并环丁烯(bcb)等的有机材料。
本发明实施例通过在显示面板的发光功能层上设置彩膜层取代偏光片，减小了显示面板的厚度，通过去除第一显示区内彩膜层内的黑矩阵层，采用透明填充层填充滤光单元之间的间隙，避免了黑矩阵层对透过透光区的光线的遮挡，提高了第一显示区内显示面板的透光率，提升了屏下摄像头的拍像效果。
具体的，请参照图2，本发明实施例提供的显示面板包括阵列基板100、发光功能层200、封装层300、触控层400、彩膜层500和盖板600，阵列基板100、发光功能层200、封装层300、触控层400、彩膜层500和盖板600从下到上依次层叠设置。
其中，阵列基板100包括从下到上依次设置的衬底110、半导体有源层121、第一绝缘层131、第一栅极层122、第二绝缘层132、第二栅极层123、第三绝缘层133、源漏极层124和平坦化层140。其中，半导体有源层121、第一栅极层122、第二栅极层123和源漏极层124共同形成显示面板的薄膜晶体管和电容等元器件。半导体有源层121图案化形成薄膜晶体管的有源区，有源区又包括沟道区和位于沟道区两侧的掺杂区，半导体有源层121的材料可以是氧化物半导体材料，也可以是多晶硅材料或单晶硅材料，在此不做限定。第一栅极层122图案化形成薄膜晶体管的第一栅极和电容的第一电极板，第二栅极层123图案化形成薄膜晶体管的第二栅极和电容的第二电极板，第一栅极和第二栅极同时对应于有源层121的沟道区。源漏极层124图案化形成薄膜晶体管的源极和漏极，源极和漏极分别通过贯穿第一绝缘层131、第二绝缘层132和第三绝缘层133的过孔与沟道区两侧的掺杂区连接。薄膜晶体管和电容等元器件、以及阵列基板中的信号线共同构成显示面板10的驱动电路，用于驱动发光功能层200进行发光显示。第一绝缘层131设置于半导体有源层121和第一栅极层122之间，第二绝缘层132设置于第一栅极层122和第二栅极层123之间，第三绝缘层133设置于第二栅极层123和源漏极层124之间，第一绝缘层131、第二绝缘层132和第三绝缘层133分别用于隔绝与其相邻的两导电层。平坦化层140位于源漏极层124上，用于平坦化阵列基板，为平坦化层140上的发光功能层200的制备提供平坦的基底，平坦化层140的材料一般为有机层，包括但不限于亚克力、聚酰亚胺(pi)或苯并环丁烯(bcb)等的有机材料。阵列基板100也可以是本领域技术人员所熟知的其他结构，以上阵列基板的结构仅在于解释说明本发明实施例提供的显示面板的结构，不用于限定。
在一种实施例中，衬底110包括位于第一显示区11内的第一衬底111和位于第二显示区12内的第二衬底112，第一衬底111和第二衬底112同层设置且厚度相同。在一种实施方案中，第一衬底111和第二衬底112的材料相同，第一衬底111和第二衬底112通过同一套工艺制程制备得到，第一衬底111和第二衬底112为透明衬底，可以同为透明刚性衬底如高透玻璃，也可以同为透明柔性衬底如透明聚酰亚胺薄膜(cpi)。在另一种实施方案中，第一衬底111和第二衬底112的材料不同，第一衬底111为透明衬底，可以是透明刚性衬底如高透玻璃，也可以是透明柔性衬底如透明聚酰亚胺薄膜(cpi)；第二衬底112为非透明衬底或透明度极低的衬底，如黄色的聚酰亚胺薄膜(ypi)或低透明度的玻璃。
本实施例通过将第一显示区11内的第一衬底111设置为透明衬底，提高了第一显示区11内显示面板的透光率，进一步提高了透光区ta内显示面板的透光率，提升了屏下摄像头的拍摄效果。
其中，发光功能层200包括第一电极层210、像素定义层220、第一发光辅助层230、发光材料层240、第二发光辅助层250和第二电极层260，第一电极层210、像素定义层220、第一发光辅助层230、发光材料层240、第二发光辅助层250和第二电极层260从下到上依次层叠设置。其中，第一电极层210设置于平坦层140上，图案化形成间隔设置且相互独立的第一电极210，在第一显示区11内，每一第一电极210分别位于对应的第一像素区aa内，在第二显示区12内，每一第一电极210分别位于对应的第二像素区ba内，第一电极210通过贯穿平坦层140的过孔与下方薄膜晶体管的源极或漏极连接，从而与显示面板的驱动电路进行连接。像素定义层220设置于第一电极层210上，图案化形成像素定义层开口，在第一显示区11内，所述开口位于第一像素区aa内与第一电极210一一对应且暴露出第一电极210，在第二显示区12内，所述开口位于第二像素区ba内与第一电极210一一对应且暴露出第一电极210。第一发光辅助层230整层设置于像素定义层220上，覆盖像素定义层220和第一电极210，第一发光辅助层230通常包括空穴传输层和空穴注入层，空穴注入层位于空穴传输层和发光材料层240之间。发光材料层240设置于像素定义层220的开口内，且与开口下方的第一电极210一一对应，发光材料层240包括颜色不同的第一发光材料层241、第二发光材料层242和第三发光材料层243，第一发光材料层241、第二发光材料层242和第三发光材料层243同层设置且分别位于不同的像素开口内，第一发光材料层241、第二发光材料层242和第三发光材料层243可分别为红色发光材料层、绿色发光材料层和蓝色发光材料层。第二发光辅助层250设置于发光材料层240上，覆盖发光材料层240和第一发光辅助层230，第二发光辅助层250通常包括电子传输层和电子注入层，电子注入层位于电子传输层和发光材料层240之间。第二电极层260设置于第二发光辅助层250上，第二电极层260一般为不透明金属形成的导电层，其材料包括但不限于银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、钯(pd)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、锂(li)或钙(ca)等金属及其合金。每一红色发光材料层和位于其下的第一电极层210、第一发光辅助层230，以及位于其上的第二发光辅助层250、第二电极层260共同构成红色像素发光单元，每一绿色发光材料层和位于其下的第一电极层210、第一发光辅助层230，以及位于其上的第二发光辅助层250、第二电极层260共同构成绿色像素发光单元，每一蓝色发光材料层和位于其下的第一电极层210、第一发光辅助层230，以及位于其上的第二发光辅助层250、第二电极层260共同构成蓝色像素发光单元。
在一种实施例中，如图2所示，在第二显示区12内，第二电极层260为整层设置，即第二电极层260完全覆盖位于第二显示区12内的第二发光辅助层250；在第一显示区11内，第二电极层260在滤光单元间隙对应的位置设置有第二电极开口，即在透光区ta内无第二电极260设置。第二电极开口的边缘距离透光区ta的边缘的距离为0-5微米，可以是第二电极层260的开口面积大于或等于透光区ta的面积，整个透光区ta内均无第二电极层260设置；也可以是第二电极层260的开口面积小于透光区ta的面积，部分透光区ta内无第二电极层260设置。
本实施例通过在第一显示区11内第二电极层260对应于滤光单元间隙的位置设置第二电极开口，进一步的，第二电极开口在彩膜层500上的投影落入滤光单元间隙所在的平面范围内。这样，在透光区ta内，位于上层的彩膜层500内无黑矩阵层设置，仅保留透明平坦层530，位于下层的发光功能层200内无第二电极层设置，仅保留透光的像素定义层220、第一发光辅助层230和第二发光辅助层250，避免了黑色遮光层或金属反射层对光线的阻挡，进一步提高了透光区ta内显示面板的透光率，有利于提高屏下摄像头的拍摄效果；另一方面，通过在第二电极层260对应于滤光单元间隙的位置设置第二电极开口，避免了由于滤光单元间隙无黑矩阵层设置，而导致第二电极层反射外界环境光，从而导致显示面板亮度不均的现象。
其中，封装层300设置于第二电极层260上，封装层300一般包括第一有机封装层、第二有机封装层和位于第一有机封装层和第二有机封装层之间的无机封装层，第一有机封装层和第二有机封装层用于平坦化发光功能层且提高显示面板的柔韧性，无机封装层用于隔绝外部水氧或杂质离子进入发光功能层。其中，第一无机封装层设置于第二电极层266上，填充像素定义层220的开口和第二电极层260的开口，覆盖第二电极层260和第二发光辅助层250；无机封装层整层设置于第一无机封装层上，第二有机封装层整层设置于无机封装层上。
其中，触控层400设置于封装层300上，包括触控电极410。触控电极410可以是自容式触控电极，也可以是互容式触控电极；触控电极410可以是单层金属层构成的触控电极，也可以是两层金属层构成的触控电极；触控电极410可以是网格状金属电极，也可以是平面状金属电极；本发明实施例对触控电极的具体结构不做限定。
在一种实施例中，如图2所示，触控电极410设置于第二显示区12内，在第一显示区11内无触控电极410。由于现有技术中常用的触控电极为金属网格状的电极结构，触控电极的网格线位于像素区之间的间隔区域内，因此，在第一显示区11内，触控电极的网格线会遮挡透光区ta内光线的透过，从而导致透光区ta内的显示面板透光率降低。本实施例通过去除第一显示区11内的触控电极，避免了触控电极对透过透光区ta的光线的遮挡，这样，在透光区ta内，位于上层的彩膜层500内无黑矩阵层设置，仅保留透明平坦层530，位于中层的触控层400无触控电极设置，位于下层的发光功能层200内无第二电极层设置，仅保留透光的像素定义层220、第一发光辅助层230和第二发光辅助层250，避免了黑色遮光层或金属反射层对光线的阻挡，更进一步提高了透光区ta内显示面板的透光率，有利于提高屏下摄像头的拍摄效果；另一方面，通过去除第一显示区11内的触控电极，避免了由于滤光单元间隙无黑矩阵层设置，而导致触控电极反射外界环境光，从而导致显示面板亮度不均的现象。
其中，盖板600设置于彩膜层500上，盖板包括透明基板610和抗反射增透膜620。透明基板610设置于彩膜层500上，抗反射增透膜620设置于透明基板610上且位于第一显示区11内。抗反射增透膜620为具有抗反射性能的涂层、薄膜或玻璃。抗反射增透膜620为单层膜结构、双层膜结构、或三层及其以上的多层膜结构，具体包括但不限于单层的氟化镁薄膜、双层的氟化镁/氧化锆薄膜或多层的氧化硅/氧化钛/氧化硅/氧化钛薄膜。一方面，由于在第一显示区11内，彩膜层500仅包括滤光单元和透明平坦层530，缺少黑矩阵层510，仅依靠滤光单元降低显示面板对环境光的反射作用，使得第一显示区11对环境光的抗反射作用低于第二显示区12的抗反射作用；另一方面，透明基板610由于其镜面作用，对外界光线具有很强的反射作用，会极大的减小显示面板的透光率。因此，本发明实施例通过在第一显示区11内透明基板610远离彩膜层400的一侧设置抗反射增透膜620，利用抗反射增透膜620的抗反射作用，降低第一显示区11内显示面板对环境光的反射，提高第一显示区11内显示面板的透光率，同时，利用抗反射增透膜620的增透作用，进一步提高第一显示区11显示面板的透光率，提高了透光区ta内显示面板的透光率，进一步提升了屏下摄像头的拍摄效果。
相应的，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例提供的任意一种显示面板，具备本发明实施例提供的任意一种显示面板的技术特征和技术效果，具体实施方式及工作原理请参照上述具体实施例，在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，该显示面板通过去除第一显示区内的黑矩阵层，采用透明填充层填充滤光单元之间的透光区，避免了黑矩阵层对透光区的遮挡，大大提高了透光区内显示面板的透光率，提升了屏下摄像头的拍摄效果；进一步，该显示面板通过在第一显示区内的盖板上增设抗反射增透膜，利用抗反射增透膜的抗反射作用，降低了第一显示区内显示面板对环境光的反射，提高第一显示区内显示面板的透光率，利用抗反射增透膜的增透作用进一步提高了第一显示区显示面板的透光率，提高了透光区内显示面板的透光率，进一步提升屏下摄像头的拍摄效果；再进一步，该显示面板通过去除第一显示区内的触控电极，避免了触控电极对透光区的遮挡，再进一步提高了透光区内显示面板的透光率，提升了屏下摄像头的拍摄效果；又进一步，该显示面板通过在第二电极层对应于透光区的位置设置开口，开口内无第二电极层设置，又进一步提高了透光区内显示面板的透光率，提升屏下摄像头的拍摄效果；更进一步，该显示面板通过将第一显示区内的第一衬底设置为透明衬底，更进一步提高了透光区内显示面板的透光率，提升了屏下摄像头的拍摄效果。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
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