中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室主要从事下一代先进新型存储器、碳基电子器件及集成、衍射光学元件、新型传感器、先进光学掩模制造与纳米加工技术等基础前沿领域研究，是国内最早开展微纳光刻与纳米加工技术研究的单位之一。研究室拥有一支在领域内有影响力的科研团队，拥有深厚的技术积累和一条先进完整的纳米加工科研线，具备扎实的纳米材料制备与加工、表征与检测基础和丰富工艺经验，在相关研究领域形成了自有特色。

　　
　　 研究室简介

　　中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室（三室）在国内最早开展亚微米微细加工技术研究，该研究室同时也是国家纳米科学中心协作实验室。研究室拥有面积达500平方米的微纳米加工平台和电子束光刻公共平台，主要研究方向有纳米加工与先进掩模制造技术、新型存储器技术、纳米尺度衍射光学元件、有机器件和电路、新型高效太阳能电池、微纳传感与应用。如今实验室有固定人员30人，包括研究员4人（含中科院“百人计划”入选者1人），副研究员及高级工程师5人，助理研究员及工程师8人，技术支持人员11人, 返聘人员2名。在学硕士、博士研究生40人，现任研究室主任是刘明研究员。

　　实验室拥有从十级到万级超净面积500平方米，完善的基于完整的“自上而下”纳米加工设备，一条完整的深亚微米、纳米加工实验研究线已经形成，各种先进加工设备和检测设备共有20多台，总共价值1亿多元；建立了国内最早的纳米加工实验平台，装备了分辨率30nm的JEOL JBX-5000LS电子束光刻系统和分辨率15nm的JEOL JBX-6300FS电子束光刻系统，分辨率350nm的MEBES 4700电子束制版系统和JBX-6AII电子束制版系统、光学制版系统、高密度等离子体刻蚀机、电子束镀膜系统、高温PECVD、原子层沉积系统ALD、光学曝光机等先进加工设备，检测设备包括JEOL 6401电子显微镜等。

　　实验室2006年至今成为国家纳米科学中心协作实验室，与国内外科研院所开展了广泛的合作。国内合作伙伴主要有中科院物理所、化学所、半导体所、微系统所、清华大学、北京大学、天津大学、电子科技大学、香港科技大学、国家纳米中心、科通集团、中电集团等。国际上分别与丹麦科技大学DACHIP实验室、美国纽约州立大学Albany分校、英国卢瑟福国家实验室微结构中心、法国国家科学研究中心、日本国立北海道大学量子电子学集成研究中心等科研团体展开合作，每年定期邀请多名国内外知名学者来实验室进行交流合作。

　　 学科方向

　　纳米加工与先进掩模制造技术

　　开展下一代光刻技术和相关理论的研究;开展了电子束和x-射线曝光技术的研究（发展成套的电子束曝光工艺模拟：电子散射、显影模型等）;开展低成本纳米结构制造技术（不同衬底材料的压印模板的研究、研制了纳米压印装置）;探索纳米加工在纳米器件中的应用（声表面波滤波器和传感器）。

　　开发了灵活的图形编辑软件，开展了先进的光学移相掩模研究,为国家重大项目提供了成套掩模，服务于航天、国防科技的重大科研任务。十五期间完成了国家863重大专项“100nm步进投影光刻机研制”中的关键技术“100nm移相掩模分系统技术设计”，同时为该重大项目提供了成套测试掩模。开展了X射线、EUV和SCALPEL掩模模板方面的探索工作。负责制定了七项微光刻技术的国家标准，正在承担6项国家标准的制定。

　　新型存储器技术

　　开展新型存储介质材料、高k介质材料与新型电极材料的研究，金属纳米晶非挥发性存储器件关键技术研究，纳米尺度下存储单元的关键电学、热学和结晶学特征与过程的仿真模型研究，开发高速、高密度、低功耗的读写驱动电路、动态电压技术和灵敏放大技研究，并与工业界密切外合作。

　　针对惯性约束聚变、空间谱仪和大型X射线天文望远镜等关系国家安全和重大科学工程的需要，开展X/EUV波段的衍射光学元件的研制和在重大工程中应用的研究；开展新原理纳米尺度直写制备的器件设计、系统搭建和前期工艺研究；开展先进EUV光刻掩模制造技术研究。

　　最外环200nm、厚度2.8μm的硬X射线波带片

　　兼容现有CMOS工艺、可集成的结构，开展有机器件、柔性显示器件、有机场效应晶体管（OFET）和电路纳器件的材料、模型、设计、关键加工工艺、和集成技术研究。

　　基于BSH质子转移双稳态分子的交叉阵列

　　微纳传感与应用

　　现阶段重点研究声表面波滤波器和新型传感器的材料制备、设计、系统集成及其在系统检测中的应用。