另一种物理气相沉积技术，溅射工艺是怎么实现的呢？

溅射是物理气相沉积技术的另一种方式，有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢？下面的视频告诉了我们答案。

 溅射的过程是由离子轰击靶材表面，使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将氩气充入真空腔体中形成低压氩气氛围，再通过使用高电压，产生辉光放电，加速离子到靶材表面。氩离子将靶材材料从表面轰击（溅射）出来，在靶材前面的被涂层工件上沉积下来，这整个过程就好像是在打台球。

 好了，想知道更多，就看看下面的视频吧。

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