建模思路分析:这次纹理采用手动的方式进行构造,先找出单元形,单元形构建完成后直接阵列即可。
01 绘制两个圆作为纹理边界;
02 绘制纹理造型曲线;
03 偏移曲线(此处偏移曲线时记得勾选松弛);
04 将偏移的曲线环形阵列12个(打开记录建构历史及更新子物件);
05 阵列的12个对象再次镜像,构建完整纹理造型;
06 移动点将外部造型轮廓调整好(切记记录建构历史打开);
07 再绘制圆限制外部纹理边界;
08 所有线选中修剪出单元形;
09 将单元形曲线炸开;
10 所有曲线重建二阶三点;
11 构建每一个双轨曲面;
12 打开曲面控制点;
13 选择最中间的点用UVN移动将点往下调整;
14 复制调整之后的曲面的边框;
15 将边框阵列并群组(方便选择);
16 借助边框曲线将底部平面分割;
17 单元形曲面阵列。
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