为什么要使用IAD（离子辅助沉积）？

发表于 八月 23, 2017二月 5, 2020

利用：

• 降低拥有成本

• 平均维护时间长（MTBM）

• 更高的投资回报率和吞吐量

使用离子辅助沉积（IAD，有时也称为离子束辅助沉积），您可以实现与离子束溅射（IBS，也称为IBD，用于离子束沉积）相似的性能，但总拥有成本较低，回报率更高您的投资。与仅使用蒸发沉积相比，IAD允许您创建更密集的薄膜，且散布更少，从而可以生产出高质量，无缺陷，应力低且对环境稳定的薄膜。

了解沉积的不同类型

诸如电子束和热蒸发之类的蒸发沉积技术是简单且广泛使用的，它以合理的成本覆盖了广泛的波长范围，但薄膜质量较低。IBS具有出色的薄膜稳定性，耐用性和精确性，但成本较高且产量较低。

IAD提供了坚实的中间基础，具有合理的机械耐用性和精度，与离子束溅射相比，其成本更低，产量更高。与蒸发不同，IAD不需要加热基材，从而可以选择更多材料。但是，与IBD相比，它确实会产生更高的散射和损耗。^1个

IAD的工作方式

IAD是标准电子束技术的一种变体，它添加了指向基板的高能离子束。该束释放的离子使蒸发的薄膜更致密。较高密度的涂层可提高抗湿性（更好的环境稳定性），更好的机械耐久性和更低的分散性。另外，离子束也可以用于预清洁或蚀刻衬底。

使用IAD，您可以实现：

• 独立控制离子电流密度和离子能量以优化膜性能

• 使用100％O2或N2反应性气体可长期运行，可确保稳定运行，而不会因工艺漂移而延长运行时间

它们是用途

IAD非常适合要求高质量和控制的苛刻光学应用。由于离子辅助沉积工艺不需要像其他薄膜沉积方法那样多的热量，因此可以涂覆塑料材料，例如聚碳酸酯透镜。

准备了解更多？下载我们的信息图，IAD的5大好处。并且，请留意我们的下一篇文章，该文章将更深入地探讨IAD的优势，并探讨RF与DC源之间的关系-哪个更好？