本文总结了高中要求的所有常见无机物的工业制备方法，包括工业制HNO₃、H₂SO₄、HCl、氨气、玻璃等，方便学生进行系统复习。

1.工业制HNO₃

4NH₃+5O₂=（催化剂、△）4NO+6H₂O

（反应条件：800度高温，催化剂铂铑合金作用下）

2NO+O₂=2NO₂

3NO₂+O₂=2HNO₃+NO

2.工业制H₂SO₄

沸腾炉：

4FeS₂+11O₂=（高温）2Fe₂O₃+8SO₂

接触室：

2SO₂+O₂⇌（加热、催化剂）2SO₃

吸收塔：

SO₃+H₂O=（高温）H₂SO₄

3. 工业制HCl

H₂+Cl₂=（点燃）2HCl

然后用水吸收，在合成塔内完成

4.工业制烧碱

2NaCl+2H₂O=(电解)H₂↑+Cl₂↑+2NaOH

5.工业制纯碱（侯氏制碱法）

NH₃+H₂O+CO₂=NH₄HCO₃

NH₄HCO₃+NaCl=NaHCO₃+NH₄Cl（NaHCO₃结晶析出）

总：NaCl＋NH₃＋CO₂＋H₂O＝NaHCO₃＋NH₄Cl

2NaHCO₃=（△）Na₂CO₃+H₂O+CO₂

6.工业制氨气

合成塔：

3H₂+N₂⇌（高温高压催化剂）2NH₃

注：催化剂为铁触媒

7. 工业制玻璃（设备名称：玻璃窑）

Na₂CO₃+SiO₂=（高温）Na₂SiO₃+CO₂↑

CaCO₃+SiO₂=（高温）CaSiO₃+CO₂↑

8. 工业制硅

利用反应 SiO₂+2C=（高温） Si+2CO↑

能得到不纯的粗硅。粗硅需进行精制，才能得到高纯度硅。

首先，使Si跟Cl₂起反应： Si+2Cl₂=SiCl₄（400 ℃～500 ℃）

生成的SiCl₄液体通过精馏，除去其中的硼、砷等杂质。然后，用H₂还原SiCl₄： SiCl₄＋2H₂=（高温） Si+4HCl这样就可得到纯度较高的多晶硅。

9. 工业制漂白粉

2Cl₂+2Ca(OH)₂=CaCl₂+Ca(ClO)₂+2H₂O

10. 工业腐蚀印刷电路板

2FeCl₃+Cu=2FeCl₂+CuCl₂

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

11. 工业制金属Na

2NaCl=（电解）2Na+Cl₂↑

12.工业制金属Mg

MgCl₂=（电解）Mg+Cl₂↑

13.工业制金属Al

2Al₂O₃=（电解）4Al+3O₂↑

注：催化剂为熔融的冰晶石，化学式为NaAlF₆

14.工业制生石灰、二氧化碳

高温煅烧石灰石：

CaCO₃=（高温） CaO+CO₂

15.高炉炼铁

Fe₂O₃+3CO=(高温)2Fe+3CO₂

16.工业制取水煤气

C+H₂O=（高温）CO+H₂

17. 粗铜的精炼

电解：阳极用粗铜

阳极：Cu－2e^－＝Cu^2＋

阴极：Cu^2＋＋2e^－＝Cu

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1.工业制HNO3

2.工业制H2SO4