28页精美图表 | 国内外光刻胶材料的发展差距在哪里？

光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。

国内外光刻胶材料的发展差距在哪里？国内又有哪些企业在布局新的产线？为帮助您更加了解光刻胶行业发展趋势，新材料在线^®编写了《2019年光刻胶行业研究报告》，为您答疑解惑、提供方向性的思路和思考。

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本文是新材料在线^®独家策划的产业研究报告