微种植钉的应用及研究

正畸矫治过程中，任何施于施治牙使其移动的力必然同时产生一个方向相反、大小相同的力，而支持这种移动矫正牙体引起的反作用力的情况称作“支抗”。在患者的颌骨中打一个微型种植体，用来做支抗，称为微种植体支抗。

近年来，正畸微种植钉（orthodontic miniscrew，OM）得到了极大的普及；在许多困难的病例中，OM都能提供可靠的支抗。虽然，OM对患者的依从性、牙弓条件要求均很小，但其稳定性尚无定论，报道显示其成功率在59.2–100.0%之间不等。以下为与种植体支抗应用相关的几项研究。

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在颧牙槽嵴区域植入正畸微支抗钉

穿入上颌窦的影响

微支抗钉被广泛应用于可预测的牙齿移动，但支抗钉的植入往往受限于解剖结构。这一研究的目的是调查微支抗钉致上颌窦穿孔的发生率及穿孔深度与上颌窦组织之间的关系。

方法：收集32名接受颧牙槽嵴区域植入微支抗钉的患者的数据。通过临床回顾性分析，确定了支抗钉植入的成功率。获取支抗钉植入后即刻和移除前的CBCT影像，并比较穿孔的发生率、穿孔深度、上颌窦外形。

结果：微支抗钉植入的总成功率为96.7%，其中穿入上颌窦的成功率为78.3%。在穿入超过1毫米的人群中，粘膜增厚的发生率为88.2%，增厚的平均值为1.0毫米；然而，在穿入小于1毫米组的人群中，粘膜增厚的发生率为37.5%，平均增厚0.2毫米（P<0.05）。

结论：在颧牙槽嵴区域植入正畸微支抗钉穿入上颌窦的发生率可能很高。对于颧牙槽嵴区的微支抗钉植入，建议穿过双侧皮质骨的植入穿孔深度在1mm之内。

2

正畸微种植钉长度对其长期稳定性的影响

这项前瞻性研究观察了TISAD / TAD的长度对其长期稳定性的影响。

方法：在拔牙病例（第一或第二前磨牙）中使用最大支抗强度内收下前牙。使用同一种TISAD / TAD：OrthoEasy Pin（Forestadent，Phorzheim，德国），长度为6或8mm。每名患者在随机选择的下颌象限（左侧或右侧）中接受6mm和8mm长的TISAD / TAD，所有的微种植钉都由同一名正畸医生使用相同的方法植入。

结果：1.如果出现轻微的松动度，但TISAD / TAD仍可用作直接支抗，则仍然认为是成功的。换句话说，只有TISAD / TAD具有较大的动度，不能再作为支抗，或者由于NiTi弹簧的作用被拉松脱，则认为TISAD / TAD“丧失”。

 2.总共54个TISAD / TAD中的40个能够达到治疗目标。所有植入的微种植钉的总成功率是74％。

结论：在20-29岁女性的下颌骨中植入8毫米正畸微种植钉，植入2周后加力100到150克，比6毫米种植钉更稳定。

3

微种植体植入的平均根间位置：

是否应当考虑牙列拥挤度？

本研究目的为明确微种植钉植入的附着龈水平的根间距离，以及探究拥挤度与可用空间的相关性。

方法：

A.全景片

两邻牙牙根之间连线垂直到釉牙骨质界作为虚拟标尺，直到找到两邻牙间距3mm处，记录该点到釉牙骨质界的距离，选取较短的根长作为标准，该距离使用根长的百分比表示，100%表示该牙间不存在至少3mm的间隙。

根据该测量结果制作根间微种植钉植入图，当值≤50%时认为是理想的植入区域；值在51%-75%区间内认为是边界区；当值≥76%则认为不宜植入。

B.数字化模型

为评价牙弓拥挤度，使用专用扫描仪及软件将模型数字化，测量上下颌骨前牙段和后牙段的牙弓拥挤度（mm）。

结果：上颌中，除了双侧尖牙及侧切牙间及中切牙间数值呈正态分布，其余根尖区值呈非正态分布；在下颌，除了切牙，其他所有拥挤数据均呈非正态分布。

结论：在开始矫正前，牙根之间平均距离图能作为微种植钉的植入指南，此外临床医生应考虑到拥挤度，若拥挤度大，则根尖区域与报道的平均值存在较大差异，因此仍推荐对每个患者进行射线检查。

（本文专业内容及图片来源：嘉友网）