神外前沿编者按：近日，人民卫生出版社在人卫电子书APP上架了芮德源、朱雨岚、陈立杰主编的《临床神经解剖学（第2版）》。
本书第1版面世已有数年，这期间它受到广大读者们的关怀与厚爱，据悉至今还有许多需求者。为满足广大读者的需要，编委们组织修订再版了此书。第2版仍然坚持两条原则，一是维持神经解剖学本身的系统性不变，系统性就是全面系统涵盖全部，“一册在手，内容全有”；二是尽量结合临床介绍相关神经解剖诊断学内容，这是编者的目的所在。在介绍神经解剖学的基础上对临床有关的内容尽量做较为详细的介绍，对在临床上少用或暂时用不上的内容不做介绍。近年来国内外对神经解剖学的研究有了突飞猛进的发展，有关这方面的内容数不胜数，编者不可能一一介绍，只能将对临床有较大影响的内容尽量介绍给读者。
为进一步提高质量，在第1版基础上，补充新进展，增添解剖诊断学新内容，在原版999幅图片的基础上，又修订并新增二百余幅解剖与临床图片。本书虽然理论性较强，但仍尽量坚持语言简练、通俗易懂，凸显其科学性、系统性、实用性与可读性。其特点是图文并茂，尽可能地把文字与图片密切结合起来，让视野呈现五颜六色，色彩缤纷，既是一种感觉上的享受，又能做到“看图识字”，便于理解、记忆，提高阅读兴趣，减轻阅读疲劳。
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第八章 大脑
人的大脑高度发展，它包罩着间脑，覆盖在中脑和小脑上面。大脑主要包括左右大脑半球，由纵沟，即半球间裂将两半球分隔，在间裂的底部是连接两半球的宽厚的纤维束板，即胼胝体，在大脑和小脑之间隔以大脑小脑裂。每个大脑半球的表面被覆一层灰质，称为大脑皮质，皮质的深方是髓质。髓质中埋藏一些灰质核团，称为基底神经节。左右大脑半球内部的腔隙是侧脑室。
人类的大脑是人类神经系统最高级的部分，是人类在漫长演化过程中不断发生发展，逐渐由量变到质变的飞跃，成为思维活动的器官。其中大脑皮质是高级神经活动的物质基础，是机体全部功能的最高调节器官。
第一节 大脑半球的外形
一、外部形态
每个大脑半球的外部形态可以概括为三个面、三个缘、四个极、六个叶（图8-1、图8-2）。
8-1 大脑半球的三个面及三个缘
图8-2 大脑半球的分叶
（一）大脑半球的三个面
1.背外侧面
是大脑半球膨隆的凸面，此面与颅顶内侧面相平行。
2.内侧面
是位于半球间裂之内，两半球相对的一面，内侧面垂直且比较平坦。
3.底面
底面凹凸不平，与颅底内侧面相适应，其前部位于颅前窝及颅中窝，后部位于小脑幕的上方。
（二）大脑半球的三个缘
1.背内侧缘
界于背外侧面与内侧面之间。
2.腹外侧缘
位于背外侧面和底面之间，此缘自后极水平向前约4cm处比较凹陷，称为枕前切迹。
3.腹内侧缘
位于内侧面与底面之间，但其界限不规则，可分为前后两部：
（1）内眶缘：
为腹内缘的前部，位于内侧面与眶面之间。
（2）内枕缘：
为腹内缘的后部，位于内侧面与小脑幕面之间。
（三）大脑半球的四个极
1.额极
是额叶的最前端。
2.颞极
是颞叶的最前端。
3.枕极
是枕叶的最后端。
4.岛极
是岛叶的前端、相当于岛域，隐藏在颞叶深方。
（四）大脑半球的六个叶
1.额叶
位于中央沟的前方及外侧裂的上方。
2.颞叶
位于外侧裂的下方及顶枕裂与枕前切迹连线的前方。
3.顶叶
位于中央沟的后方，外侧裂的上方，顶枕裂的前方。
4.枕叶
在半球的内侧面上，此叶位于顶枕裂的后方，在半球的背外侧面上，位于顶枕裂上端与枕前切迹假想连线的后方。
5.岛叶
位于外侧裂的深方被岛盖所覆盖。
6.边缘叶
系从功能与发生学角度，将大脑半球又分出一个边缘叶，由大脑半球内侧面和底面与间脑连接处的各部结构组成，包括穹隆回（扣带回、海马回、海马沟）和海马结构（海马、齿状回），还包括脑岛和额叶眶面结构。
二、主要的沟、裂
（一）大脑外侧裂
是大脑半球最深、最明显的一条裂。位于半球外侧面的中部，由颞极前方的大脑外侧谷开始，向后外上方不远处分为3支：①前支较短，行向前方，称水平支；②升支几乎垂直向上；③后支最长，是外侧裂的延续，斜向后上方终于顶叶的缘上回。大脑外侧裂的深部埋藏有三角形的脑岛。额叶、颞叶和顶叶覆盖着脑岛的部分，分别称为额盖、颞盖和顶盖，合称为岛盖（图8-3、图8-4）。
图8-3 大脑半球背外侧面的沟与回
图8-4 大脑半球内侧面的沟与回
（二）中央沟
是大脑半球最明显的沟，起自半球背内侧缘的中点稍后方，沿半球背外侧面斜向前下，至外侧裂后支的上方，离后支终点约2.5cm处。此沟的上端常切过半球的上缘，转到内侧面，达扣带沟缘支的前方。
（三）顶枕裂
位于半球内侧面偏后部，起自中央沟与枕极之间中点的稍后方，沿内侧面斜向前下至胼胝体后端的下方。
（四）距状裂
位于半球内侧面的后部，常以两支始于枕极，先向前上方再转向前下方，终于胼胝体压部的下方。
（五）扣带沟
位于大脑半球的内侧面，起始于胼胝体嘴的下方，并与胼胝体嘴的方向一致，向前向上，绕过胼胝体膝，继续沿胼胝体上方后行，然后转向上方，在中央沟上端的稍后方到达背内侧缘，故称此段为缘支。
（六）侧副裂
位于半球的小脑幕面，起自枕极附近，向前可接近颞极。常分为两段：①后段位于距状裂的外下方，与距状裂之间隔以舌回；②前段形成海马回的外界，又称为嗅裂（嗅脑沟）。
三、各叶的沟、回
（一）额叶
额叶是大脑半球最前面的部分，可区分为背外侧面、内侧面和底面。
1.背外侧面
其后界为中央沟，下界为大脑外侧裂。额叶的背外侧面有3条主要的脑沟，分成4个脑回。中央沟前方有与其平行的中央前沟。两沟之间为中央前回。在中央前沟前方有上、下两条与背内侧缘平行的脑沟，即额上沟与额下沟。额上沟以上为额上回。额上、下沟之间为额中回。额下沟与大脑外侧裂之间为额下回。额下回又被大脑外侧裂的前支和升支分为3部分，即前支以下的部分为眶部；前支与升支之间为三角部；升支与中央沟之间为盖部。三角部和盖部合称布洛卡（Broca）回（图8-3、图8-4）。
2.内侧面
以扣带沟与扣带回分界，后界以中央沟上端向下到扣带沟的连线为界。额叶内侧面前方大部分为额上回，又称为内侧额回。其后方以旁中央沟与旁中央小叶为界。旁中央小叶是扣带沟缘支和旁中央沟之间的部分。旁中央小叶被中央沟末端分为前大、后小两部分，是中央前、后回延伸到内侧面的部分。
3.底面
也称为额叶眶面。有一与内眶缘平行的直沟，称为嗅沟，此沟内容纳嗅球与嗅束。嗅沟将额叶的底面分为内、外侧两部分。嗅沟的内侧部称为直回；嗅沟外侧部称为眶回。眶回又被“H”形沟分为4部：①外侧部为眶外侧回，移行于额下回的眶部；②前部称为眶前回，向额极移行于额中回；③后部为眶后回，向后到岛阈，其外侧连于岛盖部；④内侧部为眶内侧回，向前与额上回相连（图8-5）。
图8-5 大脑半球额叶的眶面
（二）顶叶
顶叶可区分为背外侧面及内侧面。
1.背外侧面
在中央沟的后方，大脑外侧裂后支的上方，顶枕裂上端至枕前切迹连线的前方。背外侧面有与中央沟平行的中央后沟，在两沟之间为中央后回。顶间沟始自中央后沟的上段，与背内侧缘平行向后，至顶枕裂上端的下方，转向下形成枕横沟。顶间沟把顶叶后部分为上、下两部。上部为顶上小叶。下部为顶下小叶，顶下小叶的前部围绕外侧裂后支末端的部分，称为缘上回。顶下小叶的后部围绕颞上沟末端的部分，称为角回。
2.内侧面
在扣带沟缘支的后方，顶枕裂的前方，顶下沟的上方。内侧面由扣带沟缘支分为前后两部，前部较小是旁中央小叶的后部，是中央后回在半球内侧面的延续。顶叶内侧面的后部较大，称为楔前叶，此叶在扣带沟缘支的后方，顶枕裂的前方，顶下沟的上方。
（三）枕叶
枕叶位于大脑半球的后部，有3个面，即背外侧面、内侧面和底面（小脑幕面）。
1.背外侧面
枕叶在半球的背外侧面比较小，前部的界限不明显，自顶枕裂的上端至枕前切迹的连线为枕叶的前界，表面有一些不规则而又不恒定的沟回，可见短小的枕横沟和枕外侧沟，枕极前方有月状沟。这几条短沟分界一些小的脑回。枕外侧沟的上方为枕上回，下方为枕外侧回（枕下回）。
2.内侧面
有一条深而恒定的裂隙，称为距状裂，此裂起自胼胝体压部的下方斜向后上，与顶枕裂会合后，又弯向后下方，止于枕极内侧面，或绕过枕极至背外侧面。距状裂将枕叶分为上、下两回：上方的称为楔回（楔叶），其前界为顶枕裂；下方的称为舌回，其下界为侧副裂。舌回的后部属于枕叶，前部归入颞叶。
3.底面
自枕前切迹至胼胝体压部下方的连线为其前界，此面的沟回与颞叶底面的沟回相移行。距状裂与侧副裂之间为舌回，侧副裂与颞下沟之间为梭状回的后部。
（四）颞叶
颞叶位于大脑外侧裂的下方，在顶枕裂与枕前切迹连线的前方。可分为背外侧面及底面。
1.背外则面
有与大脑外侧裂相并行的两条沟，即颞上沟与颞中沟。颞上沟起自颞极附近，几乎与外侧裂平行，末端弯向后上，伸入到顶下小叶的后部。颞中沟位于颞上沟的下方，常由2～3条短沟断续连成。颞上沟与颞中沟将颞叶背外侧面分为上、中、下3个回，即颞上沟的上方为颞上回，颞上、中沟之间为颞中回，颞中沟下部为颞下回。在大脑外侧裂内，颞上回上面的后部，有几个横行的脑回，称颞横回。
2.底面
其内侧界为侧副裂，在侧副裂的外侧，有和它平行的颞下沟，又称为枕颞沟，由2～3段短沟组成，它并不延伸到枕极。在侧副裂和枕颞沟之间为梭状回，又称为内枕颞回。在枕颞沟的外侧为颞下回，又称为外侧枕颞回。
（五）岛叶
岛叶又称脑岛，位于大脑外侧裂的深部。是大脑皮质的一部分，由于其周围的皮质发育较快，故脑岛部的皮质被包埋于深部。遮盖脑岛的皮质，称为岛盖，由于岛盖系邻近各叶参与形成，故分别称为额盖、顶盖和颞盖。拉开或切开岛盖，可见脑岛呈三角形，其尖端朝向前穿质，尖的内侧稍隆起，称为岛阈。在脑岛的周围，绕有环状沟，在脑岛上有斜向前的脑岛中央沟，将脑岛分为较大的前部及较小的后部。前部被沟分为3～4个岛短回，后部为岛长回（图8-6）。
图8-6 脑岛
（六）边缘叶
边缘叶位于大脑半球的内侧面，现今一般学者认为，边缘叶包括扣带回、海马旁回、海马结构、隔区和梨状叶等。后来将边缘叶逐渐扩大，把与边缘叶皮质结构相似的区域（额叶眶回后部、岛叶前部和颞极）以及在功能和联系上较密切的一些皮质下结构（如隔核、杏仁核簇、下丘脑、上丘脑、丘脑前核以及中脑被盖内侧区等）包括在一起，称为边缘系统。边缘叶呈环形包绕大脑半球颈的周围，外界是扣带沟、顶下沟、距状裂前部和侧副裂；内界是胼胝体的上面和脉络膜裂。边缘叶又以胼胝体沟和海马裂分为内外二带形区。胼胝体沟始于胼胝体嘴的腹侧，紧沿胼胝体背面后进，最后绕到胼胝体压部的下方移行于海马裂。海马裂始于胼胝体压部的下方，然后向颞极前进，终于海马回钩。边缘叶外带又称为穹隆回，此回又分为3部分：①扣带回：位于胼胝体沟与扣带沟之间；②穹隆回峡：为胼胝体沟与距状裂之间的狭窄部分；③海马回：位于侧副裂与海马裂之间，此回又称旁海马回，其前端绕过海马裂的前端，形成海马回钩。边缘叶内带也由几部分组成：①胼胝体上回：为胼胝体背面覆盖的薄层灰质，在胼胝体沟底移行于扣带回；②胼胝体下回：为胼胝体上回向前绕到胼胝体嘴的下方，移行于终板前方的部分；③旁嗅区：胼胝体下回的前界为旁嗅沟，此沟的前方有一并行的短沟，即前旁嗅沟，两沟之间的部分，称为旁嗅区；④斜角回：胼胝体下回向下移行于斜带或斜角回，此回紧位于视束的前方，向外后方连于海马回钩；⑤束状回：胼胝体上回向后，绕过胼胝体压部，移行于束状回，此回位于胼胝体沟与胼胝体压部之间，再向前下移行于海马和齿状回（图8-7）。
图8-7 边缘系统结构模式图
关于大脑半球主要沟回的体表投影，曾有许多报告，较常用的有Kronlein测定颅脑主要沟回的表面投影法。其方法是在头部设定6条线：①矢状线：自鼻根至枕外隆凸的连线；②下横线：自眶下缘至外耳门上缘的连线；③上横线：自眶上缘向后划一线与下横线平行；④前垂直线：经颧弓中央作垂直线与上、下横线呈直角；⑤中垂直线：经下颌关节中央作垂直线与前垂直线平行；⑥后垂直线：经乳突根部后缘作垂直线与前、中垂直线平行。半球间裂位于矢状线上。中央沟位于前垂直线和上横线的交点与后垂直线和矢状线交点的连线上，也可自矢状线中点后方1.5cm处向前下做一斜线，使其与水平线呈67.5°角。此线前、后分别为额、顶叶的体表投影。大脑外侧裂相当于上横线与中央沟投影线夹角的平分线；自额骨颧突水平向后3cm至顶结节最高点下方2cm处的连线，相当于大脑外侧裂后支的位置，其下方为颞叶的体表投影。顶枕裂在脑背外侧面的部分，自矢状线人字缝尖处呈直角向外大约2～3cm（图8-8）。
图8-8 大脑半球主要沟回的体表投影
1.矢状线；2.下横线；3.上横线；4.前垂直线；5.中垂直线；6.后垂直线；7.中央沟的投影；8.大脑外侧裂的投影
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