在有机合成化学中,经常遇到对某些官能团的保护和脱保护,其中,用到最多的就是对醛酮羰基的保护和脱保护。保护的方法有很多种,一般常用的就是缩醛和缩酮方法。
1、对还原剂如NaBH4, LiAlH4, Pd/H2等都很稳定;3、对亲核试剂如格氏试剂、NaH、EtOK、H2N-NH2等都稳定;4、在质子酸或Lewis酸催化下水解而脱除保护。
一、O,O-缩醛(酮)
醛酮化合物在酸性条件下分别与甲醇、原甲酸三甲酯和2,2-二甲氧基丙烷反应均可生成O,O-二甲基缩醛(酮)化合物,起到了保护羰基的作用,反应通式如下所示:
2、O,O-乙酰基缩醛
醛羰基除了可以通过转换成O,O-二甲基缩醛进行保护外,也可以在Lewis酸催化乙酸酐条件下对醛羰基进行保护。常用的Lewis acid:FeCl3, ZrCl4等进行催化,较强的Lewis酸,如 AlX3,TiX2,BX3以及R3SiX可以活化乙酰基缩醛并使之发生脱保护。3、O,O-环缩醛(酮)
环状缩醛比非环状缩醛更易形成,最常用的O,O-环缩醛(酮)保护基有1,2-乙二醇、1,3-丙二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇、TMSOTf-TMSOCH2CH2OTMS及邻苯二酚结构式如下图所示:环缩醛(酮)的形成速率与空间效应,共轭效应和电子效应均息息相关:a) 有空间位阻的羰基不易形成缩醛;
b) 非共轭羰基比共轭羰基易形成缩醛;
c) 对于芳香醛和酮,有吸电子基团时易形成缩醛,有给电子基团不易形成缩醛。
本站仅提供存储服务,所有内容均由用户发布,如发现有害或侵权内容,请
点击举报。