集成电路曝光工艺

这期先介绍了光刻工艺中与曝光相关的技术并顺便引出了与掩模高度相关的SMO（光源-掩模协同化技术）以及OPC（光学临近效应修正）。下一期将重点介绍光刻工艺中与掩模相关的各种技术，包括SMO和OPC的详细介绍，以及对光刻中光学模型做一个总结。与光刻胶相关的各项技术将另行介绍。