【精华】等离子体刻蚀（Plasma etch process）

本期【精华文章】会介绍等离子体刻蚀。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。下面，是关于等离子体刻蚀的相关介绍。

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