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《AFM》:超薄金属薄膜!一种柔性透明电极的反常光电性能
随着工业对柔性光电器件需求的不断增长,石墨烯、还原石墨烯氧化物(r-GO)、银纳米线和二维金属氧化物等高柔性透明电极材料的研究日益深入。然而,除了银纳米线外,具有与铟锡氧化物(ITO)相当的光电性能的透明电极材料还没有被开发出来。

来自韩国丹国大学的学者开发了一种具有氧化钌(RuO2)亚表层的超薄钌薄膜作为一种柔性透明电极。金属Ru薄膜是以RuO2纳米薄片为原料,采用逐层镀膜技术,然后进行热还原制备而成的。该薄膜(≈6 nm)显示出与传统电极相当的方阻和透过率。金属薄膜在可见光范围内的高透过率(≈79%)归因于氧化亚表层的存在,氧化亚表层起到减反射的作用。采用湿化学法制备的含氧化亚表层的Ru薄膜的方阻为3.4×1041,其二维纳米片包括石墨烯、r-GO和其他金属氧化物。此外,Ru薄膜的高机械柔性使其成为超越石墨烯、r-GO和2D金属氧化物的下一代柔性透明导电电极。相关文章以“Anomalous Optoelectric Properties of an Ultrathin Ruthenium Film with a Surface Oxide Layer for Flexible Transparent Conducting Electrodes”标题发表在Advanced Functional Materials。
 
论文链接:
https://doi.org/10.1002/adfm.202109330

 图1.a)KxRuO2(母材,原始)和b)HxRuO2(水合金属氧化物)的形貌(光学和扫描电镜图像)。c)剥离的纳米薄片的悬浮液和Zeta电位(廷德尔光散射显示它们在水中分散良好)。d)剥离的纳米薄片(RuO2,非还原形式)的TEM和AFM图像。e)还原纳米片(Ru,金属形式)的TEM和AFM图像。

图2.在还原环境(5%-H2/95%-N2,混合气体)下不同温度下退火的氧化钌纳米片a)Ru 3d和b)O 1S边的高分辨率X射线光电子能谱(XPS)。Ru 3d光谱显示单调地向低结合能方向移动,表明氧化钌被还原。对在c)25°C,d)100°C,e)150°C和f)200°C热处理的样品进行了O 1S光谱曲线进行了绘制。
 
图3.a) 纳米片的TEM-EDX图像在200°C时减少,在25°C时未减少。b)纳米片薄膜的GI-XRD图案在不同温
度(25°C300°C)下减少。点表示剩余氧化钌纳米片(00l)的移位情况。
 

图4.a) 不同厚度的钌薄膜在200°C下减少的照片。b)断裂钌薄膜(TF2003L)的TEM图像。c)高分辨率(HR)-TEM晶格间距图像。
 

图5.a) 紫外-可见吸收光谱和b)不同厚度的钌薄膜的透射率(T)在200°C时降低。(c)测量和计算的TF200透射率在固定λ=550nm时作为厚度的函数图像.
 

图6。薄膜的薄层电阻(Rs)和电阻率(ρ)在不同温度下出现下降(25200°C)。数字表示温度。
 

图7。在25°C和200°C温度下热处理的不同厚度薄膜的片电阻(Rs)和透射率(T)。
 

图8。a) 钌薄膜的光电特性。红色和粉色星星分别表示在200°C(TF200-3L和TF200-5L)下厚度不同的钌薄膜。图中还显示了氧化钌薄膜(TF25-3L)的结构(小蓝星)。b) 不同TCE材料(掺锑SnO2[ATO],掺氟SnO2[FTO])中FOMH(T10/Rs)与厚度的关系。

图9.a) ΔR/R0是钌薄膜从20 mm(r20)到2 mm(r2)的各种弯曲半径的函数,其中R0是初始Rs,ΔR是弯曲前后Rs的差值。b) 与弯曲试验次数对应的结果(即使用3mm弯曲半径进行的弯曲循环次数)。
 
本文制备了超薄钌金属薄膜,并对其光电性能进行了研究。通过LbL方法对RuO2纳米片薄膜进行热还原,制备了Ru 薄膜。在还原环境下150°C以上的热处理过程中,氧化物形式转化为金属形式,相应地,薄膜变得极易导电,从而导致低片电阻。金属Ru-薄膜的纳米厚度和孔洞的存在也有助于提高其光学透过率。超薄薄膜还表现出较高的机械柔性。柔性TCE的这一优异性能有力地证明,利用2D氧化物纳米片的热还原制备的具有超薄厚度/表面氧化层和独特微观结构的Ru-薄膜是柔性光电器件的可行的下一代透明电极。文:SSC
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