超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射（Sputtering）工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
高纯溅射靶材行业属于电子材料领域，其产业链上下游关系如下：
高纯金属及溅射靶材是电子材料的重要组成部分，溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。
在全球范围内，溅射靶材产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布，高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大，具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要分布在美国、日本等国家和地区，其中，部分企业同时开展金属提纯业务，将产业链延伸到上游领域；部分企业只拥有溅射靶材生产能力，高纯度金属需要上游企业供应。
齐岳生物提供的金属靶材产品按元素分类：
1.钪元素(Sc):主要产品有高纯金属钪、金属钪靶材、2%Sc-AL合金、20%Sc-Al合金、2%Sc-Mg合金，10%Sc-Mg合金，2.15%Sc-8.8%Ni-8.8%Gd-1.5%Gd合金和其它钪合金、靶材等.
2.钇元素(Y): 主要产品有工业纯度金属钇、高纯度金属钇、金属钇靶材、钇锆合金、钇铝合金、钇镁合金和其它钇合金、靶材等.
3.镧元素(La): 主要产品有工业纯度的金属镧、金属镧靶材、镧镍合金、镧铈合金、镧铝合金及其它镧合金、靶材等.
4.铈元素(Ce): 主要产品有工业纯度的金属铈、金属铈靶、铈-铝合金、镧-铈合金及其它铈合金、靶材等.
5.镨元素(Pr): 主要产品有工业纯度的金属镨、金属镨靶材、镨-钕合金及其它镨合金、靶材等.
6.钕元素(Nd): 主要产品有工地纯度金属钕、金属钕靶材、钕-铁合金、镧铈镨钕合金及其它钕合金、靶材等.钐元素(Sm): 主要产品有高纯度金属钐、金属钐靶材、钐-钴合金及其它钐合金、靶材等.
7.铕元素(Eu): 主要产品有高纯金属铕.
8.钆元素(Gd): 主要产品有工业纯度的金属钆、高纯度的金属钆、金属钆靶材、钆铁钴合金、钆钛锆合金、钆钛合金及其它钆合金、靶材等.铽元素。
包装及保存说明
1.出库包装:内部真空袋真空包装,外部为定制产品靶材盒,纸箱快递运输
2.储存方法:收到产品后,需储存于干燥环境,密封包装,轻拿轻放,防压防撞
3.使用注意:使用前观察靶材表面是否清洁,带上干净的手套操作, 避免直接用手接触物料,勿被油污等异物污染
小编：axc
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