【3月9日讯】相信大家都知道,有着“智能手机”鼻祖称号的苹果手机,在乔布斯的带领之下,发布了初代iPhone手机以后,更是不断地给手机界带来了创新,几乎每一次的外观设计、系统功能等方面的改动,都能够引发各大手机厂商的跟随,尤其是众多国产手机厂商们,最喜欢争相模仿iPhone手机的外观设计,例如刘海屏、Face ID等都成为了行业纷纷模仿的功能。
但随着全面屏手机的形态不断发生改变,消费者审美水平也开始不断地提升,这也导致“万年不变”的iPhone手机刘海屏遭到了广大网友们的疯狂吐槽,但对于很多果粉们而言,似乎依旧非常的享受“Face ID”所带来的便利,但却不想要“大刘海屏”设计,所以也希望苹果能够拥有更多的创新,希望能够将“刘海屏”设计给取消掉,终于在近日,有媒体爆出了猛料,苹果公司在近日正式申请了一项“光线传感器”的技术专利,苹果将会设计一种全新的传感器,可以放置在屏幕下方,这也意味着未来iPhone手机将有机会取消掉“大刘海屏”设计,因为苹果将把所有的元器件放到屏幕下面去。
但对于苹果所申请的这项“屏下”技术,却再次遭到了很多网友们的“吐槽”,因为这项技术就是我们的国产老牌手机巨头—中兴,没想到在库克的带领之下,苹果手机也开始“山寨”了;在前段时间在2021MWC大会上,全球首发的3D结构光技术,可以将所有的3D结构光元器件、前置相机等等都放到屏幕下方,整个手机屏幕设计没有任何刘海、美人尖、挖孔等设计,正面完完全全就是一块屏幕。
但也有业内人士指出,虽然在外观设计方面,有抄袭中兴手机的嫌疑,但在核心技术原理上还是有着很大的区别,因为苹果所采用的Face ID功能是基于VCSEL+DOE的方案,同时还申请了大量的专利,几乎用着非常全面、完整的技术专利壁垒,而中兴所采用的3D结构光技术是基于EEL(边发射激光器)结合纳米光子芯片的结构光方案,二者还是有着很大的区别。
最后:对于"苹果所申请的“专利技术”和中兴的设计方案一致"一事,各位小伙伴们,你们对此都有什么样的看法和意见呢?欢迎在评论区中留言讨论,期待你们的精彩评论!
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