Fig 1. 机械粘附法制备 vdWGRfs。(A) 机械粘合方法示意图。(i) 石墨烯纳米片粘附在丁腈橡胶 (NBR) 载体上并被拖到 PTFE 基板上；(ii) 通过拖动将石墨烯纳米片从 NBR 载体转移到 PTFE 基底上；(iii) 去除聚合物载体，石墨烯纳米片与聚合物载体分离；(iv) 重复拖动-粘附-分离过程；(v) 石墨烯纳米片通过 vdW 力保留在 PTFE 基板上；(vi) vdWGRf 形成。(B) 石墨烯纳米片转移过程示意图。界面 1 和界面 2 分别展示了石墨烯纳米片与聚合物载体的界面、石墨烯纳米片与基底膜的界面。F 是施加的力。(C) 聚合物载体和石墨烯纳米片之间界面的脱粘模拟：石墨烯纳米片转移过程的 von Mises 应力状态。具有逐层堆叠结构的 vdWGRf 示意图：（D）顶视图和（E）横截面视图。
Fig 2. vdWGRfs 的形态学和电学性能。(A) 分别在 (i) 大 (40 cm * 80 cm)、(ii) 光滑 (Nafion®)、(iii) 多孔 (PTFE) 和 (iv) 弹性 (PDMS) 基板上展示的 vdWGRfs 照片。比例尺分别为 5、1、1 和 1 厘米。(B) 多孔 PTFE 基板上 vdWGRfs 形成的顺序扫描电子显微镜图像。比例尺，2 微米。(C) PTFE 基 vdWGRfs 的重量变化和薄层电阻随制备时间的增加而增加。(D) Ashby 图通过 CVD 和还原方法比较 vdWGRfs 与先前报道的石墨烯薄膜的薄层电阻。5、20、22、39 - 42 ( E ) 基于 PTFE 的 vdWGRf 在弯曲半径高达 0.5 mm 时的电阻变化。
Fig 3. 基于 vdWGRf 的电化学装置的性能。(A) 电压关闭（左，高热辐射）和电压开启（右，低热辐射）的器件结构示意图。PTFE 基 vdWGRf 注入 EMIMTFSI 离子液体，然后粘附铜膜。(B) 波长为 2–15 μm 的光谱反射率是 0–4 V 施加电压的函数。(C) 基于 vdWGRf 的电化学装置在 26°C 室温下在 38°C 热板上的热图像。(D) 基于 vdWGRf 的电化学装置在 0–3.4 V 下的原位 XRD 光谱。(E) XRD 峰位置 (00 n + 1), (00 n + 2) 带电的基于 vdWGRf 的热调节器。插入表显示了 vdWGRf 的两个峰值位置和相应阶段相位的比率。(F) 离子嵌入石墨烯层的示意图。(G) 基于 vdWGRf 的固体电化学装置的奈奎斯特图。(H) 基于 vdWGRf 的固体电化学装置在 0.002 至 0.5 V 扫描速率下的 CV 曲线。
Fig 4. 大面积 vdWGRfs 的 MIR 调节和热伪装。(A) 第 10 秒 0–4 V 转换下的表观温度变化。(B) 300 次循环中的发射率调节稳定性，施加电压为 -0.5 至 4 V。(C) 基于 vdWGRf 的热调节器在第 300 次循环时的综合发射率，范围为 2–15 μm。基于 vdWGRf 的热调节器在 45°C 电炉上 (D) 0 V 和 (E) 4 V 时的热图像。(F) 基于 vdWGRf 的热调节器在 4 V 时发出的黑体辐射和辐射功率。(G) vdWGRf 在人体连续 0-4 V 下的热伪装演示。尺寸：30 厘米宽和 40 厘米长。
相关研究工作由香港理工大学Wei Chen课题组于2023年在线发表在《Infomat》期刊上，原文：Scalable van der Waals graphene films for electro-optical regulation and thermal camouflage。
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