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美国密歇根科技大学Yun Hang Hu课题组--结构和化学工程石墨烯用于电容去离子

高效电容去离子(CDI技术依赖于电极表面盐离子的无阻碍传输。石墨烯具有高的理论表面积和导电率,可以提供优异的离子吸附条件,是一种理想的侯选者。当离子仅存储在双电层(EDL中时,具有分结构的亲水性石墨烯表面具有最大化表面积,便于离子的传输。通过静电吸附和法拉第氧化还原反应的协同离子存储下,石墨烯既可以充当电子高速路径,又可以充当相互间隔提供表面限制效应。实质上,结构和化学工程可以提高石墨烯的离子去除能力和速率,并提高充电效率和离子选择性。在这篇综述中,深入了解了CDI技术,以及石墨烯基材料用于CDI的最新进展。合理组装功能材料时,涉及到表面积,孔结构和亲水性等方面,提出了所面临的主要挑战。随着电极材料的发展,最终目标是实现高效,节能和环保的CDI技术

Figure 1.(A)CDI技术的循环系统,(B)流过和溢流模型示意图。

Figure 2.(A)示意图描绘了HGF的制造过程。(BHGO片的透射电镜图像。(CHGF在不同浓度NaCl水性电解质中的电吸附能力。

Figure 3.(A)3DMGA 制备示意图。(B)在电容去离子期间3DGA-OP中离子传输过程。(C)3DGA-OP3DGA-C电极在50 mg L-1 NaCl溶液中的溶液电导率与时间的关系曲线。

Figure 4. A)表面微孔石墨烯的STEM图像。(B)表面微孔石墨烯活性炭在50 mg L-1 NaCl水溶液中的电吸附能力。(CHGCSEM像和(D)电吸附能力

该研究工作由美国密歇根科技大学Yun Hang Hu课题组,于2020年发表在J. Mater. Chem. A期刊上。原文:Structurally and chemically engineered graphene for capacitive deionization

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