溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
溅射靶材分类
资料来源：共研产业咨询（共研网）
随着全球经济不断发展，智能手机、液晶电视、平板电脑等需求不断增长，叠加新能源、半导体等产业快速发展，推动溅射靶材市场规模不断扩大。预计2029年全球高纯溅射靶材市场规模将达到23.4亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为4.6%。
2018-2029年全球高纯溅射靶材市场规模预测及增速
资料来源：共研产业咨询（共研网）
《2023-2029年中国高纯溅射靶材行业产业链全景研究及市场趋势预测报告 》为共研产业研究院自主研究发布的行业报告，是高纯溅射靶材领域的年度专题报告。《2023-2029年中国高纯溅射靶材行业产业链全景研究及市场趋势预测报告 》从高纯溅射靶材发展环境、市场运行态势、细分市场、区域市场、竞争格局等角度进行入手，分析高纯溅射靶材行业未来的市场走向，挖掘高纯溅射靶材行业的发展潜力，预测高纯溅射靶材行业的发展前景，助力高纯溅射靶材行业的高质量发展。
全球范围内高纯溅射靶材生产商主要包括JX Nippon Mining & Metals Corporation、Materion、Konfoong Materials International、Linde、Plansee SE、Honeywell、TOSOH、TANAKA、ULVAC、Luvata等。2022年，全球前五大厂商占有大约58.0%的市场份额。
全球高纯溅射靶材市场前10强生产商排名及市场占有率
资料来源：共研产业咨询（共研网）
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