原文:
管P N2O/SiH4流量比对应SiOx薄膜折射率&沉积速率关系
SiNx 减反射层对抗PID 影响
孙恩来168 阅659 转11
反应磁控溅射技术的发展情况及趋势
黄沙留梦 阅1338 转26
微弧离子镀技术探讨——反应溅射中的靶中毒问题
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高端窗膜制造的三种『神』器
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零基础入门芯片制造行业---CVD
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少子寿命
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pingwba 阅117 转5
半导体薄膜淀积工艺基础知识
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booreen 阅183 转4
硫化锌-ZnS
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磁控溅射薄膜附着性能的影响因素
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《Acta Materialia》:纳米压痕表征非晶态橄榄石薄膜的流变性!
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进展 | 在冷衬底上生长超稳定金属玻璃
万语千言525 阅31
如何造出芯片:薄膜沉积|芯片制造详解06
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半导体薄膜沉积-物理气相沉积
carlshen1989 阅8
【技术前沿】用原子层沉积方法制作氧化铝钝化膜的太阳能电池
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为什么要使用IAD(离子辅助沉积)?
滄州僕臣 阅487
食品软包装新材料发展趋势
中国脑创力 阅144 转6
专题:TOPCon如何选择技术路线?
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等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术基础
新用户65671384 阅713 转21
薄膜太阳能电池的进展和展望
文明世界拼图 阅246 转13
学术干货∣硅纳米晶的制备及其在太阳能电池中的应用
vu米 阅180 转8
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