原文：西湖大学开启“冰刻2.0”研发，用冰替代光刻胶，或将简化传统光刻加工
在纳米尺度做冰雕，这项绝活儿意义重大
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三维微纳加工领域迎来精妙“冰刻”术
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新光刻技术工艺证实能令纳米芯片的发展产生重大影响
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对于铁磁金属薄膜纳米点连接的磁电阻
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没有买光刻胶的可以买5G新基建，
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里程碑突破！中国的“麻省理工”又攻下一城，盖茨预言或得到应验
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